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IT之家 10 月 15 日信息，據武漢東湖新技術研發區管理委員會（中國光谷）今日信息，光谷企業在半導體專用光刻膠行業實現重大突破：
武漢太紫微光電科技有限機構（以下簡叫作“太紫微機構”）推出的 T150 A 光刻膠制品，已經過半導體工藝量產驗證，實現配方全自主設計，有望開創國內半導體光刻制造新局面。
中國光谷官方介紹叫作：“該制品對標國際頭部企業主流 KrF 光刻膠系列。相較于被業內叫作之為‘妖膠’的國外同系列制品 UV1610，T150 A 在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到 120nm，且工藝寬容度更大，穩定性更高，堅膜后烘留膜率優秀，其對后道刻蝕工藝表現更為友好，經過驗證發掘 T150 A 中密集圖形經過刻蝕，下層介質的側壁垂直度表現優異。”
IT之家查找公開資料獲悉，太紫微機構成立于 2024 年 5 月，由華中科技大學武漢光電國家科研中心團隊創立。
太紫微機構企業負責人、英國皇家化學會會員、華中科技大學教授朱明強暗示：“以原材料的研發為起點，最后得到擁有自主知識產權的配方技術，這只是個起始，咱們團隊還會發展一系列應用于區別場景下的KrF 與 ArF 光刻膠，為國內關聯產業帶來更加多驚喜。”
